内容简介

在科技飞速发展的今天，《纳米集成电路制造工艺（第2版）》犹如一盏明灯，为渴望深入了解现代半导体技术的专业人士和学生们照亮前行的道路。本书由著名专家精心修订，全面覆盖了从基础原理到尖端应用的各个层面，包括FinFET、3D NAND存储器及CMOS图像传感器等前沿技术。特别是新增的无结场效应晶体管（JFET）与量子阱场效应晶体管章节，不仅为读者揭示了一扇通往未来集成电路设计和制造的新世界之门，还深入剖析了这些新颖器件在性能提升方面的巨大潜力。 如果你正面临如何突破摩尔定律限制的设计挑战，或是寻求提高良率和可靠性技术的解决方案，《纳米集成电路制造工艺（第2版）》将是你不可多得的专业指南。无论是半导体工程师、研究人员还是相关领域的学生，《纳米集成电路制造工艺（第2版）》都将为你提供宝贵的知识储备与灵感源泉。